二、EDI超纯水设备的主要特点：

1.产水水质高而具有较佳的稳定度高

2.连续不间断制水，不因再生而停机。

3.模块化生产，并可实现全自动控制。

4.不须酸碱再生，无污水排放。

5.无酸碱再生设备和化学药品储运。

6.设备结构紧凑，占地面积小。

7.运行费用及维修成本低。

8.运行操作简单，劳动强度低

三、EDI超纯水设备基本参数
 1、给水：RO纯水，一般水的电导率为4-30us/cm。
 2、PH：5.0-8.0(在此PH条件下，水硬度不能太高)
 3、温度：5-35℃
 4、进水压力：较大为4kg/cm2(60psi)，较小为1.5kg/cm2(25psi)。

四、EDI的进水要求 

反渗透RO产水，电导率1-20μs/cm，较大允许电导率≤30μs/cm（NaCl）。

pH值： 7.5—9

温度： 15℃--35℃

进水压力（DIN）：0.15—0.4MPa

浓水进水压力（C ） 0 10 0 3MP IN）： 0.10—0.3MPa

产水压力(DOUT)：0.05—0.25MPa

浓水出水压力(COUT)： 0.02—0.2MPa

进水硬度：＜1.0ppm(以CaCO 计）(推荐0 5ppm以下）

进水有机物：TOC＜0.5ppm

进水硅：SiO2＜0.5ppm

进水总CO2：＜3ppm

进水颗粒度：＜1μm

 

制造行业：   汽车      玻璃       钢材          造纸        纺织等

电力行业：   锅炉      火电        发电          冷却         循环等

餐饮行业：   饮料      食品        乳业          饮水         酒店等

电镀行业：   镀膜      照明        冷却          镀金属       LED灯等

光电行业：   光伏      光电        照明          新能源       LED灯等

电子行业：   电器      芯片        线路板        单片机       电子原件等

制药行业：   医药      器械        口服液        成品药       生物制剂等

能源行业：   氧化      半导体      硅材料        多晶硅       金属提取等

 

 

 

(我们设备的规格：0.25T/H、0.5T/H、1T/H.....1000T/H不等)

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